Нуриддинов, Б.З., Довранов, К.Т. and Ташатов, А.К. 2023. ОСОБЕННОСТИ ФОРМИРОВАНИЯ НАНОПЛЕНКИ SiO2 НА ПОВЕРХНОСТИ Si ПРИ ИОННОЙ ИМПЛАНТАЦИИ. CENTRAL ASIAN JOURNAL OF MATHEMATICAL THEORY AND COMPUTER SCIENCES. 4, 2 (Feb. 2023), 50-55. DOI:https://doi.org/10.17605/OSF.IO/RCX4Y.